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PR1-12000A光刻膠在Cu上顯影不干凈 已有2人參與
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硅片上依次濺射Ti/Cu后,使用PR1-12000A光刻膠勻膠(參數(shù):1000rpm-10s/2500rpm-40s),烘烤參數(shù)(120℃-180s),MA6光刻機接觸式曝光280s/310s/340s/370s,顯影240s-330s不等,均顯影不干凈。不過用同樣的勻膠和烘烤參數(shù)直接在Si片上做,曝光220s/240s/260s/280s都可以顯影干凈,只是顯影時間又差別。特別困惑,求高手不吝指教~~![]() |
鐵蟲 (初入文壇)
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