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[求助]
PR1-12000A光刻膠在Cu上顯影不干凈 已有2人參與
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硅片上依次濺射Ti/Cu后，使用PR1-12000A光刻膠勻膠（參數(shù)：1000rpm-10s/2500rpm-40s），烘烤參數(shù)（120℃-180s），MA6光刻機(jī)接觸式曝光280s/310s/340s/370s，顯影240s-330s不等，均顯影不干凈。不過(guò)用同樣的勻膠和烘烤參數(shù)直接在Si片上做，曝光220s/240s/260s/280s都可以顯影干凈，只是顯影時(shí)間又差別。特別困惑，求高手不吝指教~~ |
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2樓2015-01-04 14:07:58
zhouyang4059
鐵蟲(chóng) (初入文壇)
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3樓2015-01-04 17:57:56
4樓2015-01-04 18:57:44
5樓2015-01-05 08:51:46
exciting73 
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6樓2015-01-05 08:57:22
7樓2015-01-05 10:13:48
8樓2015-01-05 10:17:47
9樓2015-01-05 13:56:29
exciting73
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10樓2015-01-05 19:43:30
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