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[求助]
PR1-12000A光刻膠在Cu上顯影不干凈 已有2人參與
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硅片上依次濺射Ti/Cu后，使用PR1-12000A光刻膠勻膠（參數(shù)：1000rpm-10s/2500rpm-40s），烘烤參數(shù)（120℃-180s），MA6光刻機接觸式曝光280s/310s/340s/370s，顯影240s-330s不等，均顯影不干凈。不過用同樣的勻膠和烘烤參數(shù)直接在Si片上做，曝光220s/240s/260s/280s都可以顯影干凈，只是顯影時間又差別。特別困惑，求高手不吝指教~~ |
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9樓2015-01-05 13:56:29
2樓2015-01-04 14:07:58
zhouyang4059
鐵蟲 (初入文壇)
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
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- 紅花: 1
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- 專業(yè): 光學
3樓2015-01-04 17:57:56
4樓2015-01-04 18:57:44
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