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chemney新蟲 (初入文壇)
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[求助]
SU8-2000.5電子束曝光邊緣粗糙，結(jié)構(gòu)之間有交聯(lián) 已有3人參與
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實驗室購買的是MicroChem公司SU8-2002光刻膠，用該公司提供的稀釋劑將光刻膠稀釋一倍，濃度與SU8-2000.5一致。 電子束曝光條件：電壓50kV，電流30pA Written field 300um/10000dot 轉(zhuǎn)速4000r 60s 前烘 65度1min，95度1min 顯影前 65度1min，95度1min 顯影60s，IPA清洗30s 具體曝光效果如下圖所示。 曝光圖形周期600nm, 柱子直徑300nm-450nm。 請問圖形邊緣參差不齊、還有就是柱子之間交聯(lián)的原因是什么呢？改進工藝條件應該從何處著手？ 1,8.Y160kX50.0kV.jpg 2,7.Y160kX50.0kV.jpg 3.Y160kX50.0kV.jpg |
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9樓2015-12-21 09:35:24
exciting73 
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2樓2015-01-22 16:07:08
chemney
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3樓2015-01-22 19:19:28
xiaoyueriyue
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4樓2015-01-24 08:17:57
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