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haipinghu008金蟲 (正式寫手)
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[求助]
6-10nm的非晶態(tài)二氧化硅層(硅襯底)如何較準備測量
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在多晶制絨、擴散、去磷硅玻璃后的硅片上用某設(shè)備長超薄的二氧化硅層,其厚度預(yù)計約6nm-10nm,這個厚度是根據(jù)親水性預(yù)估的,因硅片的親水性較好,一般呈親水性,其厚度在6nm以上?多晶硅片絨面的大小:長端長度為4-7um,窄端長度為2-4um,深度為1-4um,不知用什么方法可以較準確地測量出該硅片上面的超薄二氧化硅層? 如不能,用硅拋光片代替常規(guī)硅片,直接在該設(shè)備上長二氧化硅層,因拋光片表面非常平整且未摻雜,預(yù)計生成的二氧化硅層厚度更薄,不知可在拋光片上測量其生長的二氧化硅層厚度? 謝謝! |
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