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haipinghu008金蟲 (正式寫手)
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[求助]
6-10nm的非晶態(tài)二氧化硅層（硅襯底）如何較準(zhǔn)備測量
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在多晶制絨、擴(kuò)散、去磷硅玻璃后的硅片上用某設(shè)備長超薄的二氧化硅層，其厚度預(yù)計(jì)約6nm-10nm，這個厚度是根據(jù)親水性預(yù)估的，因硅片的親水性較好，一般呈親水性，其厚度在6nm以上？多晶硅片絨面的大小：長端長度為4-7um，窄端長度為2-4um，深度為1-4um，不知用什么方法可以較準(zhǔn)確地測量出該硅片上面的超薄二氧化硅層？ 如不能，用硅拋光片代替常規(guī)硅片，直接在該設(shè)備上長二氧化硅層，因拋光片表面非常平整且未摻雜，預(yù)計(jì)生成的二氧化硅層厚度更薄，不知可在拋光片上測量其生長的二氧化硅層厚度？ 謝謝！ |
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2樓2017-03-07 11:22:50
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