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[求助]
能否用高斯計(jì)算材料SiC表面吸附硫酸根離子后的紅外光譜
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請(qǐng)教高手： 我在實(shí)驗(yàn)中采用做硫酸根離子吸附實(shí)驗(yàn)，采用紅外光譜檢測(cè)，出現(xiàn)了新的紅外峰，可能有弱Si-O鍵的存在，能否用高斯計(jì)算來證明這一點(diǎn)？ 如何證明？我的初步想法是：構(gòu)建SiC材料吸附硫酸根離子的模型，采用高斯對(duì)其結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化，然后算頻率，得到紅外吸收光譜，不知是否可行？ |
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2樓2015-04-09 10:48:52
jianying8996
木蟲 (著名寫手)
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3樓2018-03-14 11:18:38
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