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strandtju銀蟲 (正式寫手)
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[交流]
交換偏置怎么也做不出來,請各位大神指教! 已有1人參與
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小弟近來在做Ni81Fe19/Fe50Mn50雙層膜的交換偏置,但試了一個多月,怎么也做不出來,老板逼的又緊,請各位大神指教! 具體參數(shù):Si(100)襯底(有300nm的氧化層),磁控濺射,base pressure 小于5×10^-7 Torr,先生長了15 nm 的Cu作緩沖層,然后在 180 Oe 磁場下生長 NiFe(5 nm),F(xiàn)eMn( 6 nm),濺射功率15W,生長速率~0.7nm/min,最后生長2 nm Cu作保護(hù)層,每層長完后等待20min繼續(xù)生長下一層。生長完成后等真空度恢復(fù)到5×10^-7 Torr時進(jìn)行原位退火,升降溫速率2K/min,保持在160 ℃ 10min。 我實在不知道哪一步出了問題,特請教于各位方家! |
薄膜制備與特性 |

銀蟲 (正式寫手)

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