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young_simple

鐵蟲 (小有名氣)

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專業(yè): 高分子材料與環(huán)境

[求助] 求助二氧化硅煅燒后表面修飾，求同行指點(diǎn)

做的二氧化硅復(fù)合材料，高溫煅燒后留下二氧化硅對其表面進(jìn)行雙鍵修飾。
首先對煅燒后的二氧化硅活化，用鹽酸溶液濃度多少合適？3摩爾每升還是1摩爾每升，或者別的？活化過程只是用酸溶液泡著就好還是需要別的操作呢？
其次，活化后的雙鍵修飾過程有什么有效的方案嗎？我的實(shí)驗(yàn)表征后看到紅外峰，幾乎雙鍵沒上去，⊙﹏⊙b汗
最后，在這樣的二氧化硅表面做印跡層是不是必須有雙鍵修飾呢，有別的什么方法增加表面的黏連效果嗎
實(shí)驗(yàn)瓶頸啊，求大神指導(dǎo)，多謝

回復(fù)此樓

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1樓 2015-05-20 10:31:06

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