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evanbossccp木蟲 (正式寫手)
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[求助]
離子束刻蝕機的刻蝕均勻性（3寸片）總是達不到3%，急求原因�。。� 已有2人參與
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各位大神，我們自主研制的”離子束刻蝕機“，基片臺公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)模式，基片臺含3個自轉(zhuǎn)盤（裝3寸片），3個自轉(zhuǎn)盤繞中心公轉(zhuǎn)，3個自轉(zhuǎn)盤組成6寸大的基片臺，按理說，我們采用的基片臺公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)模式，樣品的刻蝕均勻性應(yīng)該很好，但是，我們現(xiàn)在單個自轉(zhuǎn)盤的片內(nèi)均勻性都達不到3%，更不用提在6寸范圍內(nèi)（含3個自轉(zhuǎn)盤）達到3%的均勻性了，究竟是什么原因？還請行內(nèi)高手不吝指教�。。� 問題請教： 1、影響”離子束刻蝕機“均勻性的決定性因素是什么？離子源？基片臺旋轉(zhuǎn)模式？還是兩者都有？ 2、目前，我們懷疑離子源的束流和基片臺的旋轉(zhuǎn)不匹配，也可能是基片臺旋轉(zhuǎn)不穩(wěn)定（比如說輕微的抖動）造成刻蝕均勻性不好，這種猜測合理嗎？ 3、解決”離子束刻蝕機“刻蝕均勻性要從哪些方面著手改進？ |
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zle_jy
木蟲 (著名寫手)
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3樓2021-07-02 16:41:12
physics123
銀蟲 (小有名氣)
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2樓2015-11-09 16:38:15
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