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[求助]
光刻膠旋涂厚度的控制問(wèn)題——望予以幫助，不甚感激。 已有2人參與
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最近的研究課題中突然涉及到旋涂光刻膠的工藝，由于沒(méi)有實(shí)驗(yàn)設(shè)備，不能進(jìn)行實(shí)驗(yàn)來(lái)進(jìn)行測(cè)試，故在小木蟲(chóng)上求助做過(guò)相關(guān)研究的大神，望予以幫助，不甚感激！ 問(wèn)題是：在單晶硅片上旋涂UV-8光刻膠，若想把厚度控制在三四百納米左右，其濃度和轉(zhuǎn)速等參數(shù)為多少合適。 |
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hwweven
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【答案】應(yīng)助回帖
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這個(gè)得配一系列濃度，用一系列轉(zhuǎn)速，慢慢去試。 雖然光刻膠挺貴，但也沒(méi)辦法，每個(gè)case都不會(huì)一樣。 當(dāng)然你也可以咨詢下商家，問(wèn)他們要個(gè)基準(zhǔn)參數(shù)，由這個(gè)參數(shù)來(lái)調(diào)，省點(diǎn)時(shí)間。 |
2樓2015-11-15 21:56:08
yswyx 
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3樓2015-11-19 14:09:52
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