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[求助]
光刻膠旋涂厚度的控制問(wèn)題——望予以幫助,不甚感激。 已有2人參與
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最近的研究課題中突然涉及到旋涂光刻膠的工藝,由于沒(méi)有實(shí)驗(yàn)設(shè)備,不能進(jìn)行實(shí)驗(yàn)來(lái)進(jìn)行測(cè)試,故在小木蟲上求助做過(guò)相關(guān)研究的大神,望予以幫助,不甚感激! 問(wèn)題是:在單晶硅片上旋涂UV-8光刻膠,若想把厚度控制在三四百納米左右,其濃度和轉(zhuǎn)速等參數(shù)為多少合適。 |

專家顧問(wèn) (著名寫手)
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專家經(jīng)驗(yàn): +651 |
至尊木蟲 (知名作家)
醫(yī)療器械注冊(cè)和審核
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這個(gè)得配一系列濃度,用一系列轉(zhuǎn)速,慢慢去試。 雖然光刻膠挺貴,但也沒(méi)辦法,每個(gè)case都不會(huì)一樣。 當(dāng)然你也可以咨詢下商家,問(wèn)他們要個(gè)基準(zhǔn)參數(shù),由這個(gè)參數(shù)來(lái)調(diào),省點(diǎn)時(shí)間。 |
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