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新手已上路木蟲 (職業(yè)作家)
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臺(tái)積電晶圓良率提升的秘密武器──納米微粒監(jiān)控系統(tǒng) 已有2人參與
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在半導(dǎo)體濕式制程中,晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學(xué)溶液進(jìn)行,而溶液中納米粒子的尺寸與分布會(huì)影響晶圓電路圖案(pattern)的制程結(jié)果,必須持續(xù)監(jiān)控溶液中粒子的大小及數(shù)量,只要發(fā)現(xiàn)溶液粒子不符規(guī)格,就必須馬上暫停及更換,才能維持產(chǎn)品良率。 臺(tái)積電晶圓良率提升的秘密武器──納米微粒監(jiān)控系統(tǒng)過去監(jiān)測(cè)溶液中粒子的技術(shù)是激光光學(xué)設(shè)備,但是激光光學(xué)設(shè)備有局限,“看不到化學(xué)溶液中 40 納米以下的微!,當(dāng)半導(dǎo)體制程日趨微縮,甚至進(jìn)入 10 納米制程時(shí)候,半導(dǎo)體業(yè)者必須尋找能看到更小微粒的監(jiān)控技術(shù)。 這個(gè)技術(shù)瓶頸,就連晶圓代工龍頭臺(tái)積電都必須對(duì)外求援,最后找到了同在新竹的工研院,以“新世代溶液中納米微粒監(jiān)控系統(tǒng)”技術(shù),讓這制程瓶頸有突破的可能。 傳統(tǒng)的溶液監(jiān)測(cè)方式不但監(jiān)測(cè)不到化學(xué)溶液中 40 納米以下的微粒,還會(huì)發(fā)生將氣泡誤判為微粒,影響混合信號(hào)的問題,但工研院的“新世代溶液中納米微粒監(jiān)控系統(tǒng)”技術(shù)采用“氣膠粒子量測(cè)技術(shù)”,將化學(xué)溶液氣霧化后進(jìn)行氣體粒子的量測(cè),除了能量測(cè)小到 3 納米的微粒外,也沒有誤判氣泡的問題。 “新世代溶液中納米微粒監(jiān)控系統(tǒng)”,將化學(xué)溶液氣霧化后,搭配微分電移動(dòng)度儀和凝結(jié)粒子技術(shù)器,來量測(cè)化學(xué)溶液中的粒子粒徑及分布,此種創(chuàng)新量測(cè)手法突破現(xiàn)行設(shè)備僅能偵測(cè) 40 納米以上粒子的極限,一舉將可量測(cè)粒子尺寸范圍拉大為 3~1,000 納米,可望解決半導(dǎo)體制程持續(xù)微縮所面臨的難題之一。 除了運(yùn)用于半導(dǎo)體制程外,此技術(shù)也能用于其他光電制造或生物制藥等產(chǎn)業(yè)。 |

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