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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 功能材料 » 半導體 » 關于全自動離子束刻蝕機的相關問題
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勿忘心安里鐵蟲 (小有名氣)
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關于全自動離子束刻蝕機的相關問題 已有2人參與
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請教相關蟲友們，關于全自動離子束刻蝕機（如圖四）的相關問題。 1、考夫曼離子源的相關參數，目前儀器相對而言還算正常，但是加速級電流容易超過20mA,書上說可以通過降低陰極電流和提高屏極電壓來改變，可是效果不明顯，反而會影響到其它參數的穩(wěn)定性。并且我的離子束流密度最大只能到達0.7mA/cm2.(如圖一) 2、我調整了刻蝕的離子束入射角度，一般用0度，我分別用15、30、45、60、75度做對比，發(fā)現45度時的刻蝕速率最大，但目前表面粗糙度的情況還沒有對比。怎么解釋這個情況。（我所想到的是從物理轟擊后，粒子容易掉落的角度出發(fā)，可現在還不能自圓其說，慚愧！） (如圖二，實物圖) 3、我本想研究腔體壓強與刻蝕速率和效果的關系，但是不能實時監(jiān)控腔體壓強值（說明書所說，一旦通入氣體，則須關掉真空計，我在刻蝕過程中，是需一直通入氬氣的，那就不知道腔體壓強了）。我想知道大家是怎么做的，有文獻研究了相關問題。(如圖三) 4、流量計顯示的流量值在刻蝕的過程中會發(fā)生跳動，這會影響到刻蝕參數，屏極一下子滅弧了，然后慢慢的變得正常。其實氬氣罐事先就把參數調好了，但是不知為何還出現此情況。 5、中和電流和陰極電流，我設定的是中和大于陰極，但是實際卻相反，這一點影響大嗎？ 感謝回復！ IMG_20151209_105353.jpg IMG_20151208_174442.jpg IMG_20151126_174347.jpg IMG_20151208_095800.jpg |
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問題1.不了解，建議問離子源生產廠家。2.刻蝕角度可以影響刻蝕速率，理論上講垂直入射，速率最小。3.高真空規(guī)管一般情況下是可以開啟的，不讓開應該是離子源開啟對規(guī)管有影響，可以對規(guī)管加個屏蔽解決這一問題。4.流量計示數不穩(wěn)定，很可能是流量計本身有問題，不排除流量計兩段壓差巨變造成的。5.不了解，建議問廠家。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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勿忘心安里2樓2015-12-11 09:56:29
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3樓2015-12-12 10:43:40
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4樓2015-12-12 10:49:53
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5樓2015-12-13 23:47:46
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6樓2015-12-14 07:31:18
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