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什么設(shè)備長二氧化硅質(zhì)量好且厚度可控（超材料介質(zhì)層） 已有2人參與
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大家好～ 我想要在金上長二氧化硅，需要致密性好一些，厚需要20㎚，長出來差別在1-2nm以內(nèi)，請問什么設(shè)備比較適合？ 有電子束蒸發(fā):100℃，老師說厚度可控，均勻，但是質(zhì)量不太好。 PECVD:致密，均勻性不如電子束蒸發(fā)，厚度也難控制。 還有就是ICPCVD:這個溫度也低，長的估計也不好。厚度比PECVD可調(diào)一些。 二氧化硅是用作超材料的介質(zhì)層。 [ 發(fā)自手機版 http://www.gaoyang168.com/3g ] |
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3樓2015-12-15 18:56:02
niusj
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2樓2015-12-15 17:57:16
niusj
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4樓2015-12-15 19:39:54
niusj
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5樓2015-12-15 19:40:20
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