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什么設(shè)備長(zhǎng)二氧化硅質(zhì)量好且厚度可控(超材料介質(zhì)層) 已有2人參與
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大家好~ 我想要在金上長(zhǎng)二氧化硅,需要致密性好一些,厚需要20㎚,長(zhǎng)出來(lái)差別在1-2nm以?xún)?nèi),請(qǐng)問(wèn)什么設(shè)備比較適合? 有電子束蒸發(fā):100℃,老師說(shuō)厚度可控,均勻,但是質(zhì)量不太好。 PECVD:致密,均勻性不如電子束蒸發(fā),厚度也難控制。 還有就是ICPCVD:這個(gè)溫度也低,長(zhǎng)的估計(jì)也不好。厚度比PECVD可調(diào)一些。 二氧化硅是用作超材料的介質(zhì)層。 [ 發(fā)自手機(jī)版 http://www.gaoyang168.com/3g ] |
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