 |
 |
 |
| 24小時(shí)熱門(mén)版塊排行榜 |
- >論壇更新日志 (3179)
- >考研 (727)
- >導(dǎo)師招生 (395)
- >蟲(chóng)友互識(shí) (91)
- >文獻(xiàn)求助 (85)
- >休閑灌水 (72)
- >考博 (32)
- >基金申請(qǐng) (15)
- >碩博家園 (12)
- >綠色求助(高懸賞) (11)
- >招聘信息布告欄 (9)
- >論文投稿 (9)
- >博后之家 (7)
- >教師之家 (6)
- >外文書(shū)籍求助 (5)
- >找工作 (5)
 |
 |
 |
||
 |
 |
 |
 |
 |
| 3 | 1/1 | 返回列表 |
| 查看: 723 | 回復(fù): 2 | ||
Bonnie實(shí)習(xí)版主
|
[求助]
求翻譯一小段英文 已有2人參與
|
|
We developed a postgrowth modification method of two-dimensional WO3 nanoflakes by a simultaneous solution etching and reducing process in a weakly acidic condition. The obtained dual etched and reduced WO3 nanoflakes have a much rougher surface, in which oxygen vacancies are created during the simultaneous etching/reducing process for optimized photoelectrochemical performance. The obtained photoanodes show an enhanced photocurrent density of∼1.10 mA/cm2 at 1.0 V vs Ag/AgCl (∼1.23 V vs reversible hydrogen electrode), compared to 0.62 mA/cm2 of pristine WO3 nanoflakes. The electrochemical impedance spectroscopy measurement and the density functional theory calculation demonstrate that this improved performance of dual etched and reduced WO3 nanoflakes is attributed to the increase of charge carrier density as a result of the synergetic effect of etching and reducing. |
回復(fù)此樓» 猜你喜歡
求調(diào)劑0703
已經(jīng)有5人回復(fù)
-
一志愿天津大學(xué)339材料與化工求調(diào)劑
已經(jīng)有4人回復(fù)
-
一志愿華南師范361分，化學(xué)求調(diào)劑
已經(jīng)有3人回復(fù)
-
282求調(diào)劑
已經(jīng)有6人回復(fù)
-
一志愿 南京航空航天大學(xué) ，080500材料科學(xué)與工程學(xué)碩
已經(jīng)有10人回復(fù)
-
273求調(diào)劑
已經(jīng)有13人回復(fù)
-
一志愿085600中科院寧波所276分求調(diào)劑
已經(jīng)有21人回復(fù)
-
求調(diào)劑
已經(jīng)有6人回復(fù)
-
339求調(diào)劑
已經(jīng)有5人回復(fù)
-
265求調(diào)劑
已經(jīng)有6人回復(fù)
wang342901
超級(jí)版主
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
空位: 金幣-10, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 違規(guī)廣告 2016-03-02 15:06:39
空位: 金幣-10, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 違規(guī)廣告 2016-03-02 15:06:39
|
本帖內(nèi)容被屏蔽 |
2樓2016-03-02 10:29:27
zkdq
版主
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
- 金幣: 3923.4
- 散金: 2484
- 紅花: 107
- 沙發(fā): 121
- 帖子: 6191
- 在線(xiàn): 738.8小時(shí)
- 蟲(chóng)號(hào): 2732813
- 注冊(cè): 2013-10-17
- 專(zhuān)業(yè): 外國(guó)語(yǔ)言
【答案】應(yīng)助回帖
| 我們由蝕刻和減少進(jìn)程在弱的酸性條件下的聯(lián)立求解二維 WO3nanoflakes postgrowth 改性方法。獲得雙重蝕刻和減少 WO3 納米片有很多粗糙的表面，在 which oxygen 在 optimizedphotoelectrochemical 性能的同時(shí)減少刻蝕/過(guò)程中創(chuàng)建的空缺。獲得光陽(yáng)極在 1.0 V vs 銀/氯化銀 (～1.23 V vs 可逆氫電極)，相比于 0.62 馬/cm2 的原始 WO3 納米片顯示增強(qiáng)的 photocurrentdensity of～1.10 mA/cm2。電化學(xué)阻抗譜法所得的密度泛函理論計(jì)算表明，這提高協(xié)同效應(yīng)的蝕刻和減少電荷載流子密度的增加雙重蝕刻和減少 WO3 納米片 isattributed 的性能。 |
3樓2016-03-02 16:07:19
相關(guān)版塊跳轉(zhuǎn)
我要訂閱樓主 Bonnie 的主題更新
| 3 | 1/1 | 返回列表 |
| 最具人氣熱帖推薦 [查看全部] | 作者 | 回/看 | 最后發(fā)表 | |
|---|---|---|---|---|
|
[考研] 265求調(diào)劑 +6 | yelck 2026-04-01 | 6/300 |
|
|---|---|---|---|---|
|
[考研] 材料專(zhuān)碩306英一數(shù)二 +5 | z1z2z3879 2026-03-31 | 5/250 |
|
|
|
[考研] 初試301，代碼085701環(huán)境工程，本碩一致，四六級(jí)已過(guò)，有二區(qū)一作，共發(fā)表5篇論文 +3 | axibli 2026-04-01 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 復(fù)試調(diào)劑 +7 | 雙馬尾痞老板2 2026-03-31 | 7/350 |
|
|
|
[考研] 化學(xué)308分調(diào)劑 +11 | 你好明天你好 2026-03-30 | 12/600 |
|
|
|
[考研] 一志愿a區(qū)211，085601-307分求調(diào)劑 +10 | 黨嘉豪 2026-03-31 | 23/1150 |
|
|
|
[考研] 285求調(diào)劑 +3 | FZAC123 2026-03-30 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 322求調(diào)劑：一志愿湖南大學(xué) 材料與化工（085600），已過(guò)六級(jí)。 +10 | XX小鄧 2026-03-29 | 10/500 |
|
|
|
[考研] 317求調(diào)劑 +12 | 蛋黃咸肉粽 2026-03-26 | 13/650 |
|
|
|
[考研] 0856 335分 | 封裝or激光加工 老師看看我！！ +9 | cccchenso 2026-03-29 | 9/450 |
|
|
|
[考研] 一志愿大連理工大學(xué)，機(jī)械工程學(xué)碩，341 +3 | 西瓜田的守望者 2026-03-30 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 276求調(diào)劑 +3 | 趙久華 2026-03-29 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 085601材料工程找調(diào)劑 +17 | oatmealR 2026-03-29 | 18/900 |
|
|
|
[有機(jī)交流] 考研調(diào)劑 +8 | watb 2026-03-26 | 8/400 |
|
|
|
[考研] 293求調(diào)劑 +3 | 末未mm 2026-03-30 | 5/250 |
|
|
|
[考研] 343求調(diào)劑085601 +3 | 要努力學(xué)習(xí)x 2026-03-29 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 藥學(xué)105500求調(diào)劑 +3 | Ssun。。 2026-03-28 | 3/150 |
|
|
|
[考研] 324求調(diào)劑 +5 | hanamiko 2026-03-26 | 5/250 |
|
|
|
[考研] 化學(xué)調(diào)劑一志愿上海交通大學(xué)336分-本科上海211 +4 | 小魚(yú)愛(ài)有機(jī) 2026-03-25 | 4/200 |
|
|
|
[考研] 材料專(zhuān)碩 335 分求調(diào)劑 +4 | 拒絕冷暴力 2026-03-25 | 4/200 |
|