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磁控濺射時加負偏壓對薄膜結晶度的影響 已有2人參與
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本菇?jīng)鍪褂肅ZTS靶材磁控濺射CZTS時,發(fā)現(xiàn)濺射后的CZTS薄膜結晶度很差,晶粒度特別小,老板讓我下次濺射的時候加上一定的負偏壓試試,不知道這個負偏壓對濺射過程有哪些影響,能不能提高濺射薄膜的結晶度,多謝各位大俠啦~ 大恩不言謝,小女子直接 ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() 薄膜表面形貌.jpg |
薄膜制備與特性 | 薄膜材料和器件制備 |


鐵桿木蟲 (著名寫手)


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