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強哥哥哥新蟲 (著名寫手)
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光刻顯影不干凈什么原因？ 已有4人參與
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用的是AZ-5214E反轉(zhuǎn)光刻膠，但是在顯影的時候有膠殘余，甚至一直在顯影夜液中放兩個小時，最后還是不干凈。在PZT,PIMNT單晶上面甩的膠，表面不是很平整。改怎么改進實驗？ @yswyx 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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強哥哥哥2樓2016-10-19 15:49:17
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3樓2016-10-19 18:16:29
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4樓2016-10-19 22:31:37
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預烘用80s,反轉(zhuǎn)烘3.5min,本來想預烘時間降低，但是降低的話掩模時候，片子直接頂起來粘在掩模版上了，我又擔心是預烘時間過長最底部的膠預烘時就變性了。有沒有什么好的建議？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
5樓2016-10-19 22:49:14
exciting73
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6樓2016-10-20 09:47:58
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7樓2016-10-20 10:40:04
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我們用過這種膠，不過根據(jù)經(jīng)驗判斷，1你應該用的是有機物顯影液而非氫氧化鈉之類的溶液；2你的顯影容器如果是塑料或聚四氟之類材料的話，顯影有殘渣的現(xiàn)象會很明顯；3，浸泡式顯影比噴淋式顯影，殘渣現(xiàn)象更為明顯 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
8樓2016-10-20 20:40:26
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黏住了說明你用的是厚膠，而且轉(zhuǎn)速太低，導致膠厚度太大，這一步又會影響到最后的曝光，因為厚度增加，曝光的時常也需要增加！不是顯影液的問題，顯影液10秒鐘就可以解決問題！ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
9樓2016-10-21 14:46:46
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10樓2016-10-21 15:19:00
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