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強(qiáng)哥哥哥新蟲(chóng) (著名寫(xiě)手)
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[求助]
光刻顯影不干凈什么原因？ 已有4人參與
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用的是AZ-5214E反轉(zhuǎn)光刻膠，但是在顯影的時(shí)候有膠殘余，甚至一直在顯影夜液中放兩個(gè)小時(shí)，最后還是不干凈。在PZT,PIMNT單晶上面甩的膠，表面不是很平整。改怎么改進(jìn)實(shí)驗(yàn)？ @yswyx 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
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 薄膜材料和器件制備 |
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【答案】應(yīng)助回帖
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
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以下觀點(diǎn)僅供參考： 1.先確定光刻膠與顯影液的匹配程度，即顯影效果如何，是否在有效期等； 2.你在PZT,PIMNT單晶上勻膠時(shí)表面不平會(huì)造成光刻膠在基板上薄厚不一，這會(huì)對(duì)光刻過(guò)程產(chǎn)生影響； 3.不知道你是否需要在勻膠之后烘烤去除光刻膠里的溶劑，這樣不平整也會(huì)有影響。 總之，你應(yīng)該先把勻膠弄平整，再開(kāi)展后續(xù)實(shí)驗(yàn)比較可靠一些。 |
2樓2016-10-19 15:49:17
強(qiáng)哥哥哥
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膠和顯影液的匹配，過(guò)期，不存在問(wèn)題�，F(xiàn)在問(wèn)題就是顯影不干凈，有些不管多長(zhǎng)時(shí)間都顯影不干凈，主要想問(wèn)這樣的地方是什么原因造成的， 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
3樓2016-10-19 18:16:29
exciting73 
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4樓2016-10-19 22:31:37
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預(yù)烘用80s,反轉(zhuǎn)烘3.5min,本來(lái)想預(yù)烘時(shí)間降低，但是降低的話掩模時(shí)候，片子直接頂起來(lái)粘在掩模版上了，我又擔(dān)心是預(yù)烘時(shí)間過(guò)長(zhǎng)最底部的膠預(yù)烘時(shí)就變性了。有沒(méi)有什么好的建議？ 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
5樓2016-10-19 22:49:14
exciting73
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6樓2016-10-20 09:47:58
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7樓2016-10-20 10:40:04
天海星云
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我們用過(guò)這種膠，不過(guò)根據(jù)經(jīng)驗(yàn)判斷，1你應(yīng)該用的是有機(jī)物顯影液而非氫氧化鈉之類(lèi)的溶液；2你的顯影容器如果是塑料或聚四氟之類(lèi)材料的話，顯影有殘?jiān)默F(xiàn)象會(huì)很明顯；3，浸泡式顯影比噴淋式顯影，殘?jiān)F(xiàn)象更為明顯 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
8樓2016-10-20 20:40:26
leimeng0207
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黏住了說(shuō)明你用的是厚膠，而且轉(zhuǎn)速太低，導(dǎo)致膠厚度太大，這一步又會(huì)影響到最后的曝光，因?yàn)楹穸仍黾�，曝光的時(shí)常也需要增加！不是顯影液的問(wèn)題，顯影液10秒鐘就可以解決問(wèn)題！ 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
9樓2016-10-21 14:46:46
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我最高用過(guò)時(shí)是4000轉(zhuǎn)，不過(guò)有些地方甩不上，我的片子是4*10mm的，而且是單晶PZT和PIMNT材料。 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
10樓2016-10-21 15:19:00
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