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石英單晶上光刻,圖案脫落:(
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石英單晶上光刻,圖案脫落![]() 描述:襯底 石英單晶 表面拋光過,粗糙度<0.5nm 先用丙酮,酒精,去離子水各超聲半小時,然后在紫外-臭氧機下又清洗1小時 光刻膠:AZ1500 旋涂條件:1200rmp加速,5000rmp旋涂50秒 前烘:100攝氏度 90~180s 曝光時間:70s 顯影:50s 定影:50s 氮氣吹干 問題:發(fā)現(xiàn)圖案脫落或者錯位的概率很高 ,一共處理了7片石英,只有兩片是好的,其余5片都有不同程度的圖案脫落,錯位或者斷裂,有時定影完肉眼可見圖案錯位,然后氮氣吹完圖案完全散掉。求助各位大神是什么原因?石英單晶上能否使用光刻? |
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[基金申請]
學(xué)校已經(jīng)提交到NSFC,還能修改嗎?
40+4
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簡木ChuFront 2026-03-19 | 8/400 |
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