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夸克duscbt新蟲 (初入文壇)
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石英單晶上光刻，圖案脫落:(
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石英單晶上光刻，圖案脫落 描述：襯底 石英單晶 表面拋光過，粗糙度<0.5nm 先用丙酮，酒精，去離子水各超聲半小時，然后在紫外-臭氧機(jī)下又清洗1小時 光刻膠：AZ1500 旋涂條件：1200rmp加速，5000rmp旋涂50秒 前烘：100攝氏度 90~180s 曝光時間：70s 顯影：50s 定影：50s 氮?dú)獯蹈?br /> 問題：發(fā)現(xiàn)圖案脫落或者錯位的概率很高  ，一共處理了7片石英，只有兩片是好的，其余5片都有不同程度的圖案脫落，錯位或者斷裂，有時定影完肉眼可見圖案錯位，然后氮?dú)獯低陥D案完全散掉。求助各位大神是什么原因？石英單晶上能否使用光刻？ |
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夸克duscbt
新蟲 (初入文壇)
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3樓2017-05-11 16:28:29
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2樓2017-05-11 11:45:34
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4樓2017-05-11 21:32:58
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5樓2017-05-16 16:48:45
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