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mmzlmzl鐵蟲 (初入文壇)
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[求助]
直流濺射相關(guān)參數(shù)影響的請教
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自己想做關(guān)于金濺射相關(guān)的實(shí)驗(yàn)，用的是直流濺射儀（DC sputter）。然后現(xiàn)在遇到的問題就是， 1.如果增加濺射儀的power ，金顆粒在真空狀態(tài)下下落速度是會增加？如果速度增加的話，那么他在磁場中的移動是否會呈現(xiàn)更好的直線性？又或者說，他通過某個(gè)掩膜的話，加大電壓那么通過的顆粒會更多？ 自己查詢了很多相關(guān)的資料，實(shí)在找不到，實(shí)驗(yàn)停滯在這里沒有辦法進(jìn)行。有沒有大神做過這個(gè)參數(shù)變化，然后觀察金顆�；蛘咂渌饘兕w粒的變化的？ |
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求調(diào)劑
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mmzlmzl
鐵蟲 (初入文壇)
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
- 金幣: 18.1
- 帖子: 13
- 在線: 20.5小時(shí)
- 蟲號: 15000671
- 注冊: 2019-05-02
- 專業(yè): 金屬材料的微觀結(jié)構(gòu)
3樓2019-06-10 14:54:22
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1.濺射出的粒子在真空中的運(yùn)動基本是自由運(yùn)動，重力影響可以忽略不計(jì)。2.增加功率，薄膜沉積速率會上升.3.濺射出的粒子因?yàn)橘|(zhì)量較大，即使帶電荷受磁場影響也很小，增加直線性最好的辦法是適當(dāng)提高鍍膜時(shí)的真空，增加濺射粒子的平均自由程，或者減小靶基距。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
2樓2019-06-04 19:45:42
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