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【求助】磁控反應(yīng)濺射一短時(shí)間后怎么老是腔里面會怕的一聲響 已有5人參與
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| 我用直流磁控濺射制備薄膜，以前用一直都很正常，幾天沒用，后來一用發(fā)現(xiàn)在以前的條件下不能起輝（工藝條件都是和以前一樣），不知是什么原因造成，而且把功率調(diào)大后能起輝，起輝穩(wěn)定后調(diào)回原來的功率，但是濺射一段時(shí)間后，真空腔里會隔一段時(shí)間啪的一聲響（好像是漏電碰火），不知哪位仁兄知道是什么原因造成的，怎么調(diào)整。萬分感謝！��！ |
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 反應(yīng)磁控濺射 |
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理查德森
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5樓2010-05-22 18:21:22
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3樓2010-05-21 23:16:19
4樓2010-05-22 07:49:48
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