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tickychao206銀蟲 (小有名氣)
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【求助】AlN薄膜XRD測試結(jié)果分析求助 已有2人參與
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最近使用磁控濺射法制備了氮化鋁薄膜可是XRD的結(jié)果卻很奇怪，希望大家指點一二: 1,我試驗的條件如下：選取的硅基片（100），在氫氟酸中除氧化物，然后在酒精和丙酮中超聲清洗。抽真空到10-4Pa以下，開始濺射。 2.我的實驗結(jié)果卻讓人很吃驚，在三臺設(shè)備上做出來的xrd結(jié)果驚人的相似，描述如下：分別在33°，46°，54.6°，56.4°，61.8°有峰值，其中33°的峰值也不能叫峰值，就是一個跨度很大的弓形，最強峰在61.8°，這里面所有的峰值只有33°有對應(yīng)AlN的峰值，其他的都對應(yīng)不上，不知道什么原因，還有一個很奇怪的現(xiàn)象就是對Si的背面（沒有做膜的一面）做了XRD發(fā)現(xiàn)也出現(xiàn)了以上的情況，可是峰值很弱幾乎和背地差不多，只有61.8°較強，請高人指點。 |
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diamondfire
木蟲 (正式寫手)
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2樓2010-06-29 19:47:20
tickychao206
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3樓2010-06-30 06:24:09
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