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tickychao206銀蟲 (小有名氣)
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[交流]
【求助】AlN薄膜XRD測試結(jié)果分析求助 已有2人參與
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最近使用磁控濺射法制備了氮化鋁薄膜可是XRD的結(jié)果卻很奇怪,希望大家指點(diǎn)一二: 1,我試驗(yàn)的條件如下:選取的硅基片(100),在氫氟酸中除氧化物,然后在酒精和丙酮中超聲清洗。抽真空到10-4Pa以下,開始濺射。 2.我的實(shí)驗(yàn)結(jié)果卻讓人很吃驚,在三臺設(shè)備上做出來的xrd結(jié)果驚人的相似,描述如下:分別在33°,46°,54.6°,56.4°,61.8°有峰值,其中33°的峰值也不能叫峰值,就是一個跨度很大的弓形,最強(qiáng)峰在61.8°,這里面所有的峰值只有33°有對應(yīng)AlN的峰值,其他的都對應(yīng)不上,不知道什么原因,還有一個很奇怪的現(xiàn)象就是對Si的背面(沒有做膜的一面)做了XRD發(fā)現(xiàn)也出現(xiàn)了以上的情況,可是峰值很弱幾乎和背地差不多,只有61.8°較強(qiáng),請高人指點(diǎn)。 |

銀蟲 (小有名氣)

木蟲 (正式寫手)

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