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[交流]
MS中關(guān)于優(yōu)化晶胞的問題
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1)在計算表面吸附時,可不可以直接從MS庫中調(diào)出結(jié)構(gòu),進行切面計算呢? 2)我發(fā)現(xiàn)金屬氧化物在優(yōu)化時選擇optimize cell,計算后的晶胞參數(shù)和實驗值相差很大 3)優(yōu)化晶胞時的哪些參數(shù)和計算切出來的面應(yīng)該是一致的?比如說k點,cutoff,其他的泛函那些肯定要一樣,哪些應(yīng)該根據(jù)結(jié)構(gòu)調(diào)整呢? |
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個人認為是需要進行優(yōu)化的, 導入的結(jié)構(gòu)在用ms計算的時候不一定是穩(wěn)定的, 你需要調(diào)參數(shù)使得你優(yōu)化之后的結(jié)果跟實驗結(jié)果在允許誤差范圍之內(nèi). 一般情況下, cutoff需要保持一致, 然后是k點的選取不應(yīng)該比優(yōu)化晶胞時的稀疏... |
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