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[求助]
MS做xrd精修
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小弟剛開始用ＭＳ做XRD的rietveld精修。想請教幾個(gè)問題，請各位高手不吝賜教，在下不勝感激。 1. 摻雜物質(zhì)的3D結(jié)構(gòu)圖是根據(jù)摻雜比例建立超晶格，然后替換部分原子，但這時(shí)有的位置幾個(gè)原子是等價(jià)的，有的是獨(dú)立的，替換那些呢？聽說pawley精修可以計(jì)算能量最低狀態(tài)，如何計(jì)算？兩種精修可以混合使用嗎？ 2.精修時(shí)，UVW參數(shù)，晶格常數(shù)，晶體大小，溫度參數(shù)，等等參數(shù)精修是最好依照什么順序精修的話好一點(diǎn)，精修到什么程度進(jìn)行下一步？ 3. 精修后理論峰強(qiáng)小于實(shí)驗(yàn)峰強(qiáng)怎么辦？整體偏向一側(cè)，說明零點(diǎn)漂移嗎，自己調(diào)回去嗎？要是前半部分左偏，后半部分右偏怎么辦？ 4. 最終精修結(jié)果，比如 晶格常數(shù)，原子位置，鍵長等從什么地方導(dǎo)出��？ |
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2樓2011-07-18 09:55:50
3樓2011-07-18 11:28:56
，我等我等，
4樓2011-07-18 15:25:36
，難道這是個(gè)很難的問題。大家發(fā)個(gè)表情鼓勵(lì)我一下也行啊。 
5樓2011-07-18 21:31:44
，我繼續(xù)等 6樓2011-07-19 12:03:21
zhangbiyun
新蟲 (小有名氣)
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7樓2014-09-17 13:16:29
8樓2014-09-17 17:42:48
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