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[求助]
MS做xrd精修
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小弟剛開始用MS做XRD的rietveld精修。想請教幾個問題,請各位高手不吝賜教,在下不勝感激。 1. 摻雜物質(zhì)的3D結(jié)構(gòu)圖是根據(jù)摻雜比例建立超晶格,然后替換部分原子,但這時有的位置幾個原子是等價的,有的是獨立的,替換那些呢?聽說pawley精修可以計算能量最低狀態(tài),如何計算?兩種精修可以混合使用嗎? 2.精修時,UVW參數(shù),晶格常數(shù),晶體大小,溫度參數(shù),等等參數(shù)精修是最好依照什么順序精修的話好一點,精修到什么程度進行下一步? 3. 精修后理論峰強小于實驗峰強怎么辦?整體偏向一側(cè),說明零點漂移嗎,自己調(diào)回去嗎?要是前半部分左偏,后半部分右偏怎么辦? 4. 最終精修結(jié)果,比如 晶格常數(shù),原子位置,鍵長等從什么地方導(dǎo)出。 |





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