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[求助]
求助關(guān)于磁控濺射清洗方面的問題~~~急急急 已有1人參與
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請問各位大蝦,在用磁控濺射儀器做實驗時,在濺射前的基體清洗過程中需要將靶電源打開嗎? 因為我做實驗的基體容易被氧化,需要再在濺射前長時間加上負偏壓將氧化層打掉,可是我在清洗過程中打開靶電流的話,最后的薄膜的sem顯示薄膜是兩層,因此考慮在清洗過程中不開靶電流,但是不知道不開把電源 只加偏壓和氣壓的情況下能不能達到清洗效果······· 謝謝啦·~~~ |
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