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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 金屬 » 設備儀器 » 求助關于磁控濺射清洗方面的問題~~~急急急
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[求助]
求助關于磁控濺射清洗方面的問題~~~急急急 已有1人參與
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請問各位大蝦，在用磁控濺射儀器做實驗時，在濺射前的基體清洗過程中需要將靶電源打開嗎？ 因為我做實驗的基體容易被氧化，需要再在濺射前長時間加上負偏壓將氧化層打掉，可是我在清洗過程中打開靶電流的話，最后的薄膜的sem顯示薄膜是兩層，因此考慮在清洗過程中不開靶電流，但是不知道不開把電源 只加偏壓和氣壓的情況下能不能達到清洗效果······· 謝謝啦·~~~ |
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7樓2012-05-24 20:08:09
2樓2012-04-27 09:47:48
6樓2012-05-23 10:34:59
8樓2012-05-24 20:11:27
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