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[求助]
在催化劑表面進行改性修飾,怎么確定Mg-o-Al鍵的生成或者Mg-o-Si的生成
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| 求助高手指導(dǎo),我在催化劑載體表面進行修飾,怎么確定在催化劑表面有Mg-o-Al鍵的生成或者Mg-o-Si的存在,XPS行不? |

木蟲 (正式寫手)
鐵蟲 (初入文壇)

木蟲 (正式寫手)
| 這個問題可以通過紅外來解決。首先做一個純SiO2的紅外譜圖,修飾之后再做一個,對比修飾之后紅外譜圖的差異,重點關(guān)注Si-O-Si在1100 cm-1左右的反對稱伸縮振動頻率,若峰位置發(fā)生改變,則證明有離子進入Si-O-Si結(jié)構(gòu)而使其破壞。具體來說,Mg的原子質(zhì)量小于Si,因此若形成Mg-O-Si結(jié)構(gòu)會導(dǎo)致1100 cm-1左右的振動峰向高波數(shù)方向移動。 |
至尊木蟲 (職業(yè)作家)
木蟲 (正式寫手)


木蟲 (小有名氣)
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XPS理論上是可以的,但估計要 1 at% 左右才能檢測到。XPS的優(yōu)點是檢測表面上吸附的物質(zhì)很靈敏。檢測深度在5-10nm。 測得的結(jié)果可以和NIST數(shù)據(jù)庫里的文獻比對。 http://srdata.nist.gov/xps/main_search_menu.aspx |
銅蟲 (小有名氣)

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