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[求助]
在催化劑表面進行改性修飾，怎么確定Mg-o-Al鍵的生成或者Mg-o-Si的生成
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| 求助高手指導，我在催化劑載體表面進行修飾，怎么確定在催化劑表面有Mg-o-Al鍵的生成或者Mg-o-Si的存在，XPS行不？ |
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shijunjun2樓2012-05-30 07:30:41
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3樓2012-05-30 10:23:46
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【答案】應助回帖
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感謝參與，應助指數(shù) +1
shijunjun: 金幣+10, ★有幫助, 謝謝詳細解答 2012-05-30 19:31:27
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| 這個問題可以通過紅外來解決。首先做一個純SiO2的紅外譜圖，修飾之后再做一個，對比修飾之后紅外譜圖的差異，重點關注Si-O-Si在1100 cm-1左右的反對稱伸縮振動頻率，若峰位置發(fā)生改變，則證明有離子進入Si-O-Si結(jié)構(gòu)而使其破壞。具體來說，Mg的原子質(zhì)量小于Si，因此若形成Mg-O-Si結(jié)構(gòu)會導致1100 cm-1左右的振動峰向高波數(shù)方向移動。 |
4樓2012-05-30 11:42:47
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shijunjun: 金幣+10, ★★★很有幫助, 謝謝您的回復，看來我還得仔細學學XPS 2012-05-31 10:57:19
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shijunjun: 金幣+10, ★★★很有幫助, 謝謝您的回復，看來我還得仔細學學XPS 2012-05-31 10:57:19
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XPS理論上是可以的，但估計要 1 at% 左右才能檢測到。XPS的優(yōu)點是檢測表面上吸附的物質(zhì)很靈敏。檢測深度在5-10nm。 測得的結(jié)果可以和NIST數(shù)據(jù)庫里的文獻比對。 http://srdata.nist.gov/xps/main_search_menu.aspx |
9樓2012-05-31 01:58:21
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10樓2012-05-31 08:19:30
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