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scuthb新蟲 (初入文壇)
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[求助]
求助：磁控濺射制備ZnOS薄膜，重復(fù)不出來
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用磁控濺射制備ZnOS薄膜，以ZnS為靶材，以Ar和O2分別為工作氣體和反應(yīng)氣體，通過改變氧分壓調(diào)節(jié)ZnOS合金中的S含量。 兩個月前第一次做實驗時，制備出了結(jié)晶性較好的合金薄膜。但之后一直無法重復(fù)出來，所制備的樣品為非晶（XRD上幾乎沒有信號）。請問有可能是哪些原因引起的？ |
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6樓2012-08-01 07:11:40
2樓2012-07-31 12:32:22
3樓2012-07-31 17:00:12
Smallpeng
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4樓2012-07-31 19:57:48
Eric_
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5樓2012-07-31 22:51:21
蔣青松
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7樓2012-08-01 07:38:56
scuthb
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8樓2012-08-01 09:27:43
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9樓2012-08-01 09:28:36
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10樓2012-08-01 09:30:09
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