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氧化鋁----陶瓷和單晶---磁控濺射
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哪位大俠能夠系統(tǒng)的介紹一下氧化鋁?主要是它的形態(tài)。 磁控濺射中,用陶瓷的好,還是用單晶的好,陶瓷的可能會(huì)出現(xiàn)斷裂,兩者的鍍膜質(zhì)量和鍍出來(lái)的氧化鋁膜形態(tài)一樣嗎? |


木蟲(chóng) (著名寫手)
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氧化鋁的形態(tài)?不清楚你要問(wèn)什么 磁控濺射做氧化鋁膜沒(méi)有單晶靶,一般都是鋁靶反應(yīng)濺射,氧化鋁陶瓷做靶材對(duì)電源要求比較高,兩者鍍膜質(zhì)量一般來(lái)說(shuō)陶瓷的好,但沉積速率慢,設(shè)備靶材都貴一些,鋁靶控制上要求高,控制得好薄膜質(zhì)量與陶瓷靶沒(méi)什么差別,兩種方法沉積的氧化鋁都有非晶成分,需要退火改善 |
金蟲(chóng) (著名寫手)

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