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樓1970-01-01 08:00:00
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靜靜一yi捐助貴賓 (著名寫手)
靜靜
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3樓2013-05-10 14:51:28
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| 查看全部 6 個(gè)回答 | ||||
SleepTooLong銀蟲 (小有名氣)
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2樓2013-05-10 14:32:18
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yswyx
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專家經(jīng)驗(yàn): +651 |
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火車上,提交的時(shí)候斷網(wǎng)了,又要輸一遍,悲催。。。 這個(gè)shot map不是封裝的術(shù)語(yǔ),純粹是光刻的,而且是只針對(duì)投影式步進(jìn)光刻的。 在stepper光刻機(jī)中,reticle的圖形被縮小投影到wafer表面,曝光wafer上的光刻膠。reticle一般尺寸是5寸或者6寸,而縮小的倍率一般是4倍或者5倍,最后得到的曝光范圍是小于50mm的,一般是30mm左右見(jiàn)方。而對(duì)于wafer,從2寸到12寸,一次投影是不能完成整個(gè)面積的,必須要多次投影曝光才能覆蓋整個(gè)wafer。 shot,指的就是一次投影曝光,很形象的命名,就像照相機(jī)在照相的時(shí)候閃光燈flash一下。 map,半導(dǎo)體領(lǐng)域常用于表示某種分布,也是很形象的命名,用的很廣泛。 shot map,顧名思義,多次投影曝光在wafer上的分布。不同的產(chǎn)品,分布是不同的,甚至shot也是不同的,所以需要綜合考慮。 |
專家顧問(wèn) (著名寫手)
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專家經(jīng)驗(yàn): +651 |
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