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樓1970-01-01 08:00:00
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yswyx
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專(zhuān)家經(jīng)驗(yàn): +651 |
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小木蟲(chóng): 金幣+0.5, 給個(gè)紅包，謝謝回帖
124685887: 金幣+5, 專(zhuān)家考核, 回帖精彩 2013-05-10 20:10:41
124685887: MN-EPI+1, 知識(shí)豐富啊 2013-05-11 09:14:10
小木蟲(chóng): 金幣+0.5, 給個(gè)紅包，謝謝回帖
124685887: 金幣+5, 專(zhuān)家考核, 回帖精彩 2013-05-10 20:10:41
124685887: MN-EPI+1, 知識(shí)豐富啊 2013-05-11 09:14:10
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火車(chē)上，提交的時(shí)候斷網(wǎng)了，又要輸一遍，悲催�。。�！ 這個(gè)shot map不是封裝的術(shù)語(yǔ)，純粹是光刻的，而且是只針對(duì)投影式步進(jìn)光刻的。 在stepper光刻機(jī)中，reticle的圖形被縮小投影到wafer表面，曝光wafer上的光刻膠。reticle一般尺寸是5寸或者6寸，而縮小的倍率一般是4倍或者5倍，最后得到的曝光范圍是小于50mm的，一般是30mm左右見(jiàn)方。而對(duì)于wafer，從2寸到12寸，一次投影是不能完成整個(gè)面積的，必須要多次投影曝光才能覆蓋整個(gè)wafer。 shot，指的就是一次投影曝光，很形象的命名，就像照相機(jī)在照相的時(shí)候閃光燈flash一下。 map，半導(dǎo)體領(lǐng)域常用于表示某種分布，也是很形象的命名，用的很廣泛。 shot map，顧名思義，多次投影曝光在wafer上的分布。不同的產(chǎn)品，分布是不同的，甚至shot也是不同的，所以需要綜合考慮。 |
回復(fù)此樓4樓2013-05-10 20:08:26
SleepTooLong
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2樓2013-05-10 14:32:18
靜靜一yi
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3樓2013-05-10 14:51:28
yswyx 
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5樓2013-05-11 01:29:29
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