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求教一個(gè)磁控濺射的問題 相同的靶材濺射出的膜質(zhì)量卻不一樣！ 已有1人參與
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一直用磁控濺射在石英玻璃上鍍鉻-金膜做為導(dǎo)電層，一般功率為200w ，工作電流430MA,電壓450v。 在老金靶用完之后，我更換一個(gè)了金靶，功率不變，工作電流變?yōu)?10MA,電壓480v，其它參數(shù)沒任何變化，但是膜層的質(zhì)量嚴(yán)重下降，鍍膜后石英器件的振動(dòng)品質(zhì)因數(shù)也下降的很明顯。 我只更換了金靶，沒更改任何參數(shù)設(shè)置，為何造成這么大的變化啊。 金靶應(yīng)該是沒有問題的，之前用別的磁控濺射設(shè)備鍍膜沒有任何問題。 [ Last edited by cheadache on 2013-6-28 at 19:05 ] |
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