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xiongnr鐵桿木蟲 (著名寫手)
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2樓2013-07-04 03:23:45
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| 英文上CVD和PVD的區(qū)別 常見PVD有分子束外延，電子束蒸度，磁控濺射等等，最根本的就是沉積的時(shí)間是否發(fā)生了化學(xué)變化，如果生產(chǎn)新的物質(zhì)自然是CVD。一般CVD是通過熱的或者等離子的外力，使分子裂解成碎片氣源，然后在基地上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，沉積到基地上。而PVD就簡(jiǎn)單了，就是通過RF,EB，等等把基地靶材打出分子，原子，然后沉積到基地物質(zhì)上，是個(gè)簡(jiǎn)單的物理過程。如常見的磁控濺射吧，就是通過射頻等離子打到靶材上，然后沉積成納米厚的薄膜層。個(gè)人愚見，僅供參考 |
4樓2013-07-04 08:32:49
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一個(gè)是發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，一個(gè)是發(fā)生的只是物理反應(yīng) 化學(xué)氣相沉積顧名思義，氣態(tài)物質(zhì)在固體表面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)產(chǎn)物并在固體上沉積。eg.利用H2還原TaCl5粉末沉積Ta薄膜，簡(jiǎn)單來說，其反應(yīng)：TaCl5+H2→Ta+HCl ↑ 高溫使得TaCl5粉末揮發(fā)為氣態(tài)，在反應(yīng)溫度下氣態(tài)TaCl5與H2發(fā)生反應(yīng)生成Ta沉積在基體表面，生成的HCl氣體被抽出沉積室 至于物理氣相沉積，是指在真空條件下，通過一定方法加熱靶材使其蒸發(fā)或?yàn)R射，使這些攜帶能量的蒸氣粒子沉積到基體或零件的表面凝聚成膜。這屬于物理反應(yīng)。 |
6樓2015-01-06 10:40:07
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