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thermoelectric木蟲 (小有名氣)
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[求助]
如何得到大厚度均勻性好的光刻膠掩膜
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| 現(xiàn)在在做深硅刻蝕,但是設(shè)備的選擇比相對較小,所以想加大膠的厚度,4-5微米,請問該怎么選擇膠和對應(yīng)的旋涂工藝才能保證膠的均勻性。先不用考慮膠分辨率的問題。 |
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木蟲 (小有名氣)
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經(jīng)驗(yàn)上熱板溫度要控制在多少,對轉(zhuǎn)速有什么要求。4620相對抗刻點(diǎn),SU8是不是更適合厚膠。 下面也是小木蟲上搜到的: 負(fù)性光刻膠用的最多的是SU-8膠。SU-8膠是一種較新的的基于環(huán)氧樹脂的化學(xué)增幅型負(fù)性近紫外光刻膠,具有良好的光敏性和高深寬比,適合于MEMS或MOEMS、UV-LIGA和其它超厚膜應(yīng)用。它的優(yōu)點(diǎn)有:一次旋涂可形成數(shù)百微米厚的膠層;可得到垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;交聯(lián)以后具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性、熱穩(wěn)定性和電絕緣性。但SU-8膠難以去除。 謝謝。 |
木蟲 (小有名氣)
專家顧問 (著名寫手)
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新蟲 (初入文壇)
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