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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 如何得到大厚度均勻性好的光刻膠掩膜
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thermoelectric木蟲 (小有名氣)
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[求助]
如何得到大厚度均勻性好的光刻膠掩膜
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| 現(xiàn)在在做深硅刻蝕，但是設備的選擇比相對較小，所以想加大膠的厚度，4-5微米，請問該怎么選擇膠和對應的旋涂工藝才能保證膠的均勻性。先不用考慮膠分辨率的問題。 |
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5樓2013-07-23 14:43:16
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2樓2013-07-22 20:42:06
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3樓2013-07-22 21:51:23
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4樓2013-07-22 21:53:29
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