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thermoelectric木蟲 (小有名氣)
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[求助]
如何得到大厚度均勻性好的光刻膠掩膜
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| 現(xiàn)在在做深硅刻蝕，但是設(shè)備的選擇比相對較小，所以想加大膠的厚度，4-5微米，請問該怎么選擇膠和對應(yīng)的旋涂工藝才能保證膠的均勻性。先不用考慮膠分辨率的問題。 |
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經(jīng)驗上熱板溫度要控制在多少，對轉(zhuǎn)速有什么要求。4620相對抗刻點，SU8是不是更適合厚膠。 下面也是小木蟲上搜到的： 負性光刻膠用的最多的是SU-8膠。SU-8膠是一種較新的的基于環(huán)氧樹脂的化學增幅型負性近紫外光刻膠，具有良好的光敏性和高深寬比，適合于MEMS或MOEMS、UV-LIGA和其它超厚膜應(yīng)用。它的優(yōu)點有：一次旋涂可形成數(shù)百微米厚的膠層；可得到垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；交聯(lián)以后具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性、熱穩(wěn)定性和電絕緣性。但SU-8膠難以去除。 謝謝。 |
3樓2013-07-22 21:51:23
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2樓2013-07-22 20:42:06
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4樓2013-07-22 21:53:29
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5樓2013-07-23 14:43:16
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