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so110木蟲 (正式寫手)
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[交流]
關(guān)于玻璃或鋁材研磨后清洗的相關(guān)問題 已有10人參與
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玻璃清洗越來越火，最近也看到很多同行問相關(guān)的問題，特把自己做的一些工作拿來分享： 研磨拋光液介紹： 研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序，行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。 研磨液分類： 研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學(xué)機械作用研磨液。 機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。 化學(xué)機械作用研磨液：化學(xué)機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機械作用研磨液又稱為化學(xué)機械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。 化學(xué)機械拋光液（CMP）根據(jù)磨料不同的分類： 二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。 金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類： 金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。 研磨后的問題 不銹鋼、鋁材、玻璃等工件經(jīng)過研磨液處理后，需經(jīng)過清洗、烘干方能進入下一工序。但是，由于研磨液體系穩(wěn)定性及研磨工藝的問題，常會發(fā)生“工件研磨后在進行清洗前，研磨液干枯在工件上，形成難以清洗的污垢，尤其是使用硅溶膠類型研磨液處理高光面時”。 針對二氧化硅研磨液干枯后的污垢，提供三種解決方法： 1、常規(guī)的，用含氟的清洗清除污垢。這種方法對人和設(shè)備都有傷害，而且不環(huán)保。 2、用二氧化硅研磨液，對含污垢的工件進行二次研磨，研磨后盡快進行清洗。這種方法對工藝和人員操作要求比較高，一般來說，自動化產(chǎn)線較難實現(xiàn)。 3、使用“研磨液添加劑（硅垢阻垢劑）” 。該藥劑，環(huán)保無害，可自然降解，按5-10%的體積比添加到研磨液的使用液中，不影響研磨效果，能有效防止研磨液污垢尤其是硅垢的形成。 在實際生產(chǎn)中，存在兩個問題（目前發(fā)現(xiàn)兩個）限制了以上方法的使用： 1、部分工件如玻璃是不允許使用含氟清洗的； 2、最近本人遇到的，工件一面是拋光的，另一面是不需要拋光的凹凸面，大量的研磨液或研磨粉殘留在凹凸面上。 在存在以上問題的生產(chǎn)中，使用研磨添加劑是有效的。最近研發(fā)出另一新的工藝來解決該問題，從而消除客戶對添加劑影響研磨效果的擔(dān)心。 對于耐堿的材質(zhì)（玻璃、不銹鋼等），原液使用 WSY401B 清洗劑（堿性） 60-65度 超聲清洗3-5分鐘 即可； 對于鋁材的不耐腐蝕的材料，原液使用 WSY402B 清洗劑（中性） 90-95度 超聲清洗3-5分鐘 即可 技術(shù)不斷更新中！ 博客歡迎閱讀，不是轉(zhuǎn)載，是本人。 http://blog.sina.com.cn/s/blog_54499d5d01012t57.html 如有不當(dāng)，請同行指教。 |
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9樓2020-10-20 11:33:45
2樓2014-05-21 17:19:23
jackieli李康
鐵桿木蟲 (正式寫手)
潤滑油切削液研發(fā)工程師
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3樓2015-04-23 11:15:09
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