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maximus1214銀蟲 (初入文壇)
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[求助]
EBL顯影之后做了SEM發(fā)現(xiàn)問題
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| 我在EBL(PMMA A4)顯影之后,做了一下SEM,看了幾個圖形區(qū)域。結(jié)束之后發(fā)現(xiàn)一些圖形區(qū)域中圖形還存在,但是以圖形為中心,出現(xiàn)一個矩形框把圖形包圍起來,矩形中的膠就像被刻蝕掉了一樣,求大神解釋一下,這是為什么?謝謝! |
金蟲 (正式寫手)
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其實就是停留太久了,如果你停留再久點,當(dāng)你移走SEM視場時,會發(fā)現(xiàn)原來視場左上角的位置已經(jīng)被beam燒出一個點了,最好的方法就是做很多組重復(fù)圖形,調(diào)好參數(shù),顯影后觀察只用觀察其中的一兩組就夠,如果所觀察的都沒問題,基本能夠確定其他的圖形也沒什么大問題(就算有也是個別問題)。 還有,這個不是針對你顯影不顯影的問題,你顯影完后PMMA在沒被曝光的地方照樣是大分子相互連接,當(dāng)你觀察圖形時,beam照到這些地方,大分子還是斷裂變成小分子,和你第一次曝光的過程是一樣的。并且,我們有時為了看套刻是否準(zhǔn)確,會在一層膠上連做兩次曝光,兩次顯影,效果也不錯,就是這個意思。希望對樓主有所幫助! |
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