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磁控濺射氧化鋁和氧化鋅 已有2人參與
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我剛剛接觸磁控濺射,做了氧化物TFT器件,,氧化鋁做絕緣層,氧化鋅為有源層,制備完之后,發(fā)現(xiàn)器件很容易被擊穿,沒有一點場效應,電流還有隨著電壓增大下降的趨勢,猜想可能是氧化鋁太薄,但是加大膜厚后,依然如此,而且感覺有源層濺射的也不均勻,濺射設(shè)備是三個靶,頭碰頭,基片可以旋轉(zhuǎn),沒有充氧,也沒有使用退火,我想問一下有沒有遇到過這種情況的?應該怎么解決?謝謝! [ Last edited by sddtc888 on 2014-3-17 at 10:54 ] |
木蟲 (正式寫手)
貧困區(qū)
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