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莫愁_L新蟲 (小有名氣)
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光刻膠厚度如何影響特征長度，分別從電子光刻和光學(xué)光刻說明 已有1人參與
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作業(yè)求助 ：光刻膠厚度如何影響特征長度，分別從電子光刻和光學(xué)光刻說明 |
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yswyx 
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如果只考慮理論上光刻膠厚度增加，對不同光刻類型造成的影響，可以做如下解釋： 1. 電子束光刻：由于電子束在束斑位置進(jìn)入光刻膠后會由于電子互相排斥以及和原子碰撞的原因發(fā)生散射，電子束斑隨著光刻膠深度的增加而增加。在這一情況下，厚光刻膠的分辨率會隨著厚度的增加而下降。要點(diǎn)是電子束的散射。 2. 投影式光刻：投影式光刻都存在DOF，隨著光刻膠這一物面遠(yuǎn)離焦面，成像越來越模糊，分辨率迅速下降。當(dāng)光刻膠的厚度超過DOF以后，會有部分光刻膠處于離焦的狀態(tài)，會使得成像不清晰。隨著光刻膠厚度的增加，分辨率會下降。要點(diǎn)是物面的離焦?fàn)顟B(tài)。 3. 接觸式光刻：和投影光刻不同，接觸式光刻沒有所謂的DOF，但是光刻的分辨率還是和光刻膠厚度相關(guān)的，隨著光刻膠厚度的增加，mask距離光刻膠厚度中間位置的距離越來越遠(yuǎn)，衍射效應(yīng)帶來的成像模糊越來越嚴(yán)重，分辨率會下降。這個(gè)是有公式的，可以在光刻的書籍中找到。要點(diǎn)是厚度增加造成衍射嚴(yán)重。 這個(gè)題目設(shè)計(jì)的有它的其他問題 在IC工業(yè)領(lǐng)域中，最常用的都是薄光刻膠，光刻膠厚度對分辨率的影響直接表現(xiàn)為高寬比的極限，一般的光刻膠不會超過5：1，工藝中常常不會超過3：1。這個(gè)極限是由于光刻膠本身的物理機(jī)械性能決定的，和電子束光刻，光學(xué)光刻沒有關(guān)系。在實(shí)際應(yīng)用中，每個(gè)品種的光刻膠，都有對應(yīng)的厚度范圍，在這個(gè)范圍內(nèi)，厚度對特征尺寸，也就是分辨率沒有任何影響，這就是光刻膠適用的工藝窗口。 你們老師估計(jì)是想討論，當(dāng)光刻膠厚度超出工藝窗口，對分辨率的影響，或者說他只是想讓你們了解純理論的結(jié)論。實(shí)際上在IC領(lǐng)域，對分辨率起決定因素的往往是光刻膠的物理機(jī)械性能，而不是厚度。因?yàn)楣饪棠z的分辨率極限是有相當(dāng)大的冗余的，工藝窗口內(nèi)的分辨率要小于光刻膠實(shí)際能達(dá)到的分辨率。光刻膠厚度增加，絕大部分情況下，仍然能夠達(dá)到工藝窗口內(nèi)的額定分辨率，只是因?yàn)榫�條又窄又高，光刻膠本身承受不住這樣的結(jié)構(gòu)，發(fā)生倒塌。 在IC的領(lǐng)域，基本上不用厚膠光刻，原因如上解釋，所以這個(gè)題目在IC領(lǐng)域的前提不成立。這個(gè)題目對厚膠光刻是成立的，而厚膠光刻的主要應(yīng)用領(lǐng)域是先進(jìn)封裝和mems。由于光刻應(yīng)用的多樣性，這樣的題目出出來，容易讓學(xué)生在以后的實(shí)踐中發(fā)生概念的混淆，不容易理解實(shí)際中各個(gè)工藝方法的限制和適用性。應(yīng)該再給學(xué)生講解的更深入，最好能夠具體的分析各種光刻的方法以及對應(yīng)的應(yīng)用。 |
2樓2014-04-18 17:26:02
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