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[求助]
請教光刻掩模瞬態(tài)熱分析問題 已有2人參與
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小弟現(xiàn)從事X射線光刻方向研究，遇到了關于掩模在同步輻射光照射下的瞬態(tài)熱分析問題。 現(xiàn)有一有效面積為直徑83mm的圓形掩模，在垂直帶寬為8mm的光束以20mm/sec的速度掃描照射下，使用ANSYS對整個掩模進行瞬態(tài)熱分析，應該如何進行？ 模型描述：掩模受照射的面積為直徑83mm的圓形，掃描開始時光束以200mm/sec^2的加速度開始從距離掩模2mm的位置起步，前沿到達掩模后轉為20mm/sec的勻速通過照射區(qū)域，當后端離開時以200mm/sec^2的減速度減速，停止后重新開始反向加速，重復之前的過程。 目前的思路是: 1. 使用Matlab求出在給定時間步長下的光帶端點坐標，建立以時間為參考的坐標系統(tǒng)來描述變化的受照射區(qū)域；2. 將得到的實時面積代入ANSYS中，使用APDL來施加變化的移動熱載荷于掩模上，熱載荷類型為內部生熱；3. 進行瞬態(tài)熱分析，以第1步Matlab中的時間步長為基準。 發(fā)現(xiàn)難點是這個移動熱載荷不只有位移，同時還有面積的變化，請教各位高人應當如何處理？多謝賜教 Model1.jpg 3.jpg 2.jpg |
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9樓2020-01-03 11:27:47
2樓2014-05-14 08:02:16
3樓2014-05-14 10:37:51
4樓2014-05-14 13:13:44
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