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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 學術討論 » 磁控濺射曲面工件膜厚均勻性
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FLYFWY木蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控濺射曲面工件膜厚均勻性 已有1人參與
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工件是三分之一柱面的玻璃，用磁控濺射方法在其內(nèi)表面鍍金屬銥， 但曲面會引起不同部分的靶基距不同。 想請教一下大家，用什么方法可以提高膜的均勻性？ 謝謝大家！  |
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4樓2014-09-11 22:29:34
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