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firstlaker金蟲 (正式寫手)
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[求助]
光刻后腐蝕掉鐵膜 已有3人參與
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| 如題。我想做鐵膜的pattern，發(fā)現(xiàn)lift -off 工藝做得不是很好。pattern直徑1um左右，厚度45nm,間距2um左右。磁控濺射鍍膜后，再經(jīng)電子束光刻，然后去掉基片上的未被膠覆蓋的鐵膜，有合適的溶液么？電子束光刻時(shí)要使用什么樣的膠才好？ |
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lee0803
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2樓2014-09-25 14:39:53
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4樓2014-09-25 17:19:42
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5樓2014-09-25 22:23:53
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6樓2014-09-26 12:40:31
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7樓2014-09-26 12:40:46
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【答案】應(yīng)助回帖
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
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強(qiáng)烈不建議用腐蝕，因?yàn)閭?cè)向腐蝕非常嚴(yán)重，而且很不均勻。即使反應(yīng)很劇烈，也很難得到圖形邊緣光滑的結(jié)果。所以只能用IBE來(lái)做，直接離子轟擊，形貌做出來(lái)會(huì)很好。 至于光刻，既然要的是圓形，那么1um的圖形肯定是用電子束做的好，光學(xué)光刻不能讓圖形的圓周達(dá)到完美的效果，分辨率肯定不夠。應(yīng)助不代表有幫助，自己仔細(xì)分辨。 你需要的電子束膠似負(fù)膠，常用的SAL601，不是很好買�？梢杂胢icroresist的Negative Photoresist mr-EBL 6000.3，勻300nm的厚度做光刻，然后去做IBE，蘇州銳材應(yīng)該有現(xiàn)貨，或者直接找他們做加工。 |
9樓2014-09-26 17:54:51
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10樓2014-09-26 18:11:57
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