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firstlaker

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[求助] 光刻后腐蝕掉鐵膜已有3人參與

如題。我想做鐵膜的pattern，發(fā)現(xiàn)lift -off 工藝做得不是很好。pattern直徑1um左右，厚度45nm,間距2um左右。磁控濺射鍍膜后，再經(jīng)電子束光刻，然后去掉基片上的未被膠覆蓋的鐵膜，有合適的溶液么？電子束光刻時(shí)要使用什么樣的膠才好？

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1樓 2014-09-25 10:33:45

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firstlaker

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2樓: Originally posted by lee0803 at 2014-09-25 14:39:53
用NaCl 溶液腐蝕，一般用置換反應(yīng)來(lái)腐蝕鐵。

我試了下，NaCl不太好，可能是我用得比較稀的關(guān)系。
后面我用HNO3試了下，可以腐蝕掉鐵，但是邊緣的情況也不怎么好，最后得到的鐵膜的厚度也存在問(wèn)題。

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7樓2014-09-26 12:40:46

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lee0803

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firstlaker: 金幣+10, ★★★很有幫助 2014-09-26 12:38:55

用NaCl 溶液腐蝕，一般用置換反應(yīng)來(lái)腐蝕鐵。

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2樓2014-09-25 14:39:53

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exciting73

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這么大的pattern沒(méi)必要用電子束曝光吧？用普通的光刻膠就可以了，電子束膠比較貴。
為什么磁控濺射鍍膜之后才進(jìn)行電子束光刻？要用濕法腐蝕去掉鐵膜嗎？直接用lift-off工藝不好嗎？
我們這邊用普通光刻膠、電子束膠以及腐蝕液，有需要站內(nèi)聯(lián)系。

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3樓2014-09-25 16:15:29

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引用回帖:

3樓: Originally posted by exciting73 at 2014-09-25 16:15:29
這么大的pattern沒(méi)必要用電子束曝光吧？用普通的光刻膠就可以了，電子束膠比較貴。
為什么磁控濺射鍍膜之后才進(jìn)行電子束光刻？要用濕法腐蝕去掉鐵膜嗎？直接用lift-off工藝不好嗎？
我們這邊用普通光刻膠、電子束 ...

1um的話，光刻就比較困難了。
lift-off工藝做出來(lái)的，往往再磁控濺射后邊緣質(zhì)量很差，有幾百個(gè)納米高，這樣的pattern不符合我們的要求。

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4樓2014-09-25 17:19:42

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